近日，一種新型“3米長光柵復制光刻機”在中科院光電技術所研制成功。這是該所繼成功研發URE-2000系列大面積曝光機后創新研發的一項新型精密光刻設備。該機在母尺和工件間抽真空，采用蠅眼透鏡的i線均勻照明系統，結合氣浮工件臺一維運動而實現大行程的掃描、真空接觸、i線曝光。其照明均勻性為±2%，光刻分辨力優于5微米，照明面功率密度50mW/cm2，照明面積28mm×32mm；工件臺勻速掃描行程大于3300mm，且掃描速度可在1mm-30mm/s范圍任意調整與設定；整機實現計算機控制管理，液晶顯示，中文界面，操作簡便。該機衍射效應平滑、均勻照明、光源準直、真空接觸、整機集成等頗具創意，具有精度高、可靠性好、自動、高效等特點，可廣泛應用于高精度長光柵等長尺寸器件微細加工與生產。