近日，由中國計量院舉辦的“微電子和石墨烯產業中的測量、計量與表征”研討會在昌平院區召開。此次研討會以微電子產業和石墨烯產業對測量、計量和表征技術的需求為主要研討內容，關注所涉及的測量與表征技術的發展前沿、關鍵技術和產業需求，來自中國、美國、英國、德國、法國、日本、澳大利亞等十幾個國家或地區的計量院、研究院、高校、企業的50多名代表參會。
　　首先，中國計量院科管部負責人介紹了此次研討會的舉辦背景和中國計量院的相關情況。包括中國計量院在內的國內外產、學、研、用單位的10位相關領域專家做了大會報告。報告內容涵蓋：石墨烯產業發展與對標準、測量的需求與研究；多層石墨烯層數表征；基于橢偏光度法的薄膜物性表征；硅半導體產業的計量討論；納米存儲芯片工程化中的測量與表征；中國計量院有關半導體產業可溯源幾何量測量的研究；基于高分辨透射電鏡和掃描電鏡背散射衍射法對半導體微器件和薄膜應力/應變的測量；掠入射X射線反射法測納米級薄膜的膜厚；光譜儀在半導體、石墨烯中的應用。
　　報告后，國外代表表示中國石墨烯與半導體產業的快速發展與不斷提高的技術水平出乎意料，參會代表就相關問題進行了熱烈的交流與討論。隨后，與會代表參觀了中國計量院昌平院區新材料實驗室。
　　通過主辦此次研討會，中國計量院促進了科研人員與企業的交流。一方面企業了解到測量表征的新技術，同時科研人員也開闊了思路與眼界，了解了微電子產業和石墨烯產業對測量與表征技術的需求，為更緊密地圍繞產業需求進行科學研究，促進產、學、研相結合奠定了基礎。