3月24日，由中國計量科學研究院（以下簡稱“中國計量院”）牽頭承擔的國家重點研發計劃“國家質量基礎設施體系”重點專項（以下簡稱“NQI專項”）“片上納米幾何量與電學量計量技術研究及應用”實施方案論證會在中國計量院和平里院區召開。

中國21世紀議程管理中心、市場監管總局科財司相關領導，中國計量院副院長戴新華及相關部門負責人，項目和課題負責人、各承擔單位代表共40余人參會。哈爾濱工業大學儀器科學與工程學院院長劉儉、中國科學院微電子研究所研究員周維虎、清華大學精密儀器系教授曾理江、北京大學集成電路學院教授張大成等10位項目咨詢專家參會指導。會議以線上線下結合的方式進行。

會上，中國計量院副院長戴新華對參會的領導和專家表示歡迎，從重視項目的執行、加強項目成果與產業實際需求結合等方面對項目提出要求。中國21世紀議程管理中心和市場監管總局科財司相關領導對項目實施管理提出要求。項目負責人、中國計量院副研究員楊雁匯報了項目的總體情況、技術路線及預期成果等。來自中國計量院、同濟大學、中科院微電子所等單位的課題負責人分別介紹了各課題的具體任務及實施方案。

項目咨詢專家組成員從各自專業角度為項目及課題實施提出了咨詢意見。中國計量院相關部門負責人介紹了項目管理和經費管理的制度辦法。

據項目負責人楊雁介紹，集成電路產業的高質量發展離不開片上精密測試與計量技術。當前，對片上關鍵特征參數的高精度檢測與量值溯源是集成電路工藝中亟需解決的共性計量問題。該項目以研制片上納米幾何量與電學量計量核心器件及相關計量裝置為目標，擬建立面向集成電路片上膜厚、高密度光柵及位移傳感、電容和功率參數的計量校準能力，并開展相應成果的應用示范。

項目將突破片上膜厚、高密度光柵、電容和微波功率標準器件的制備和計量技術瓶頸，實現片上膜厚和高密度光柵及位移傳感的高精度溯源，解決片上微小電容與微波功率參數定標溯源技術不足與標準芯片缺失的難題。該項目的完成，將有助于提高集成電路產業鏈經濟質量效益和核心競爭力，助力我國半導體集成電路產業的高質量發展。（文：張欣、石亞楠  圖：石亞楠）